鋁氧化標牌制作、面板的氧化方法

鋁氧化標牌制作、面板的氧化方法有以下幾種：
　　　　1.交流氧化著色，氧化膜軟適合沖壓凸字后加工；
　　　　2.室溫硫酸氧化適合染黑色；
　　　　3.低溫硫酸氧化，氧化膜細致又硬，適合染印地素、金色染料等；
　　　　4.硫酸、草酸混酸氧化可在常溫條件下得到硬氧化膜；
　　　　5.瓷質(zhì)氧化用鉻酸和硼酸陽極氧化，表面同瓷釉.
鑒于氧化膜的厚度與其抗腐蝕性的線性關系，膜層厚度試驗是首要的檢測試驗。可采用渦流測厚儀測厚，也可采用金相法或其他物理方法。鋁氧化膜厚的另一個指標是單位面積的氧化膜重量，一般要求在2.5g／m2以上。另一個重要的測試是抗腐蝕性能測試，包括耐堿性能測試、鹽水噴霧試驗等。其中耐堿性能測試是針對鋁氧化膜的專用方法。鋁氧化膜的耐磨性能也是一項重要指標，試驗的方法是落砂法。
鋁和鋁合金的電化學氧化膜因有良好的抗蝕性能和可著色性，在鋁金屬表面處理中一直都是用量最大的典型工藝。因而針對鋁氧化膜的各種測試方法也較多。
MC--2000A型涂鍍層測厚儀采用電磁感應法測量涂鍍層的厚度。位于部件表面的探頭產(chǎn)生一個閉合的磁回路，隨著探頭與鐵磁性材料間的距離的改變，該磁回路將不同程度的改變，引起磁阻及探頭線圈電感的變化。利用這一原理可以精確地測量探頭與鐵磁性材料間的距離，即涂鍍層厚度。